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氧化硅片

產(chǎn)品編號：JAH-SiO2 Wafer

產(chǎn)品產(chǎn)地：

產(chǎn)品描述：氧化硅片,二氧化硅片,氧化硅片廠家
產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品簡介：

       二氧化硅片是指在硅片表面熱生長一層均勻的介質(zhì)薄膜，用作絕緣、或者掩模材料。氧化工藝包括高溫干氧氧化、高溫濕氧氧化。公司采用進(jìn)口先進(jìn)氧化設(shè)備、工藝實現(xiàn)氧化層均勻、準(zhǔn)確的生成。

產(chǎn)品特點：

● 氧化層厚度均勻  ● 平整度好   ● 翹曲度小 

● 尺寸公差小     ● 表面無光滑無瑕疵

產(chǎn)品規(guī)格說明

外形尺寸：

1",2",3",4",5",6",7 ~ 12"

可定制

型號

N型/ P型、本征（不摻雜）

客戶要求

直徑:

50 ~ 300mm

 

總厚度:

250 ~ 600 μm

可定制

厚度誤差

±10μm

 

氧化層厚度

50nm ~ 2000nm（常規(guī)100nm，200nm，300nm，500nm，1000nm）

客戶要求

平整度（TIR）

< 3 μm

 

翹曲度（BOW）

≤15μm

 

TTV:

≤15μm，30μm

 

粗糙度

< 0.5nm

 

電阻率:

0.001~ 20000 (Ω·cm)

客戶要求

晶向

〈100〉；〈110〉；〈111〉

 

級別

IC級

 

表面處理

單拋，雙拋，研磨

客戶要求

 

  

   
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